能实现对工艺气体的流量、压力、浓度、混配比及反应时间等方面的精准控制。 Gas Box是一种在半导体工艺设备侧的模组化气体供应系统，是半导体干法工艺设备中极为重要的通用子系统，位于气体输送系统的末端，与主供气系统、阀门盒、化学品输送系统、工艺设备紧密配合，按照生产工艺的具体需求对不同特殊工艺气体进行传输和分配，实现对工艺气体的流量、压力、浓度、混配比及反应时间等方面的精准控制。
能实现对工艺气体的流量、压力、浓度、混配比及反应时间等方面的精准控制。 Gas Box是一种在半导体工艺设备侧的模组化气体供应系统，是半导体干法工艺设备中极为重要的通用子系统，位于气体输送系统的末端，与主供气系统、阀门盒、化学品输送系统、工艺设备紧密配合，按照生产工艺的具体需求对不同特殊工艺气体进行传输和分配，实现对工艺气体的流量、压力、浓度、混配比及反应时间等方面的精准控制。
Gas Box在为设备制程精密供气的同时还需要防止各种毒性、可燃性气体的泄漏，具体包含手动/气动截止阀、逆止阀、质量流量控制器、压力调节控制器等组件。因其有极高的安全气密性、耐蚀性、小型化和控制精度要求，故具有较高技术门槛和行业壁垒。泛半导体工艺设备厂商通常自己开发制造核心模块，而将Gas Box通用模块组件交由专业第三方供应。
